Elektroničke kemikalije G4 fluorovodična kiselina (poluvodička vlažna kemikalija)

Elektroničke kemikalije G4 fluorovodična kiselina (poluvodička vlažna kemikalija)

Revizija dokumenta: 01
Datum izdavanja: 2026-09-02
Primjenjivi standard: SEMI G4 Grade (Semiconductor Ultra-High Purity Wet Chemical)

Identifikacija proizvoda

 

Artikal

Specifikacija

Naziv proizvoda

G4 Fluorovodična kiselina (HF)

Kategorija proizvoda

Poluvodička elektronička mokra kemikalija

Kemijski naziv

Fluorovodična kiselina

Kemijska formula

HF

CAS br.

7664-39-3

Molekulska težina

20.01

UN broj

1790

Razred

SEMI G4 Ultra-Elektronička razina visoke čistoće

 

Pregled proizvoda

 

G4 fluorovodična kiselina je anorganska kiselina visoke -na bazi fluora- isključivo rafinirana za naprednu izradu poluvodičkih pločica i proizvodnju mikroelektronike. Usvajajući više{4}}stupanjsko ultra-pročišćavanje, filtriranje-bez korozije i tehnologiju punjenja čiste-sobe klase 1000, proizvod sadrži ultra-male tragove metala, anionskih nečistoća i mikro{10}}sadržaj čestica, u potpunosti u skladu sa strogim međunarodnim standardima SEMI G4.

 

Kao mokra kemikalija za selektivno nagrizanje jezgre i čišćenje u poluvodičkim-čeonim procesima, pokazuje izvrsnu selektivnost nagrizanja za slojeve silicijevog oksida uz minimalno oštećenje silicijevih supstrata i nitridnih filmova. Stroga kontrola nečistoća učinkovito izbjegava mikro-kontaminaciju i defekte pločica, osiguravajući visok prinos i dugoročnu -stabilnost za napredne procese proizvodnje čipova.

 

Izgled:Bezbojna, bistra i prozirna hlapljiva tekućina

 

Tehničke specifikacije (SEMI G4 standard)

 

Ispitni predmet

Specifikacija

HF test

48,5 ~ 49,5 tež.%

Izgled

Bezbojna i bistra prozirna tekućina

Boja (APHA)

Manje od ili jednako 5

Gustoća @ 20 stupnjeva

1,15 ~ 1,18 g/cm³

Ostatak isparavanja

Manje od ili jednako 30 ppb

Pojedinačni tragovi metala (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Manje od ili jednako 10 ppb svaki

Fluosilicijska kiselina (H₂SiF₆)

Manje od ili jednako 10 ppm

Sulfat (SO₄²⁻)

Manje od ili jednako 30 ppb

Nitrat (NO₃⁻)

Manje od ili jednako 30 ppb

klorid (Cl⁻)

Manje od ili jednako 30 ppb

Čestice veće ili jednake 0,2 μm

Manje od ili jednako 100 kom/mL

 

Bilješka:Svi podaci testiranja temelje se na-specifičnom COA-u (Certifikat analize).

 

Primjene (mokri postupak poluvodiča)

 

Uklanjanje prirodnog oksida u obliku ploče:Selektivno uklonite nativni silicijev oksid i zaostale onečišćenja oksida na površinama silicijskih pločica bez oštećenja silicijske podloge, optimizirajući stanje površine za postupke taloženja, litografije i jetkanja.

Precizno selektivno jetkanje:Koristi se za fino jetkanje SiO₂ dielektričnih slojeva, oksidnih slojeva vrata i slojeva tankog filma u proizvodnji IC-a, uz visoku ujednačenost jetkanja i izvrsnu upravljivost procesa kako bi se osigurao precizan prijenos uzorka.

RCA postupak mokrog čišćenja:Služi kao ključna komponenta modificiranih RCA rješenja za čišćenje za uklanjanje mikro-čestica, ionskih nečistoća i organskih ostataka na površinama pločica, poboljšavajući ukupnu čistoću pločica.

Napredno pakiranje i MEMS proces:Primjenjuje se za površinsku obradu, mikro-jetkanje i uklanjanje nečistoća MEMS uređaja, poluvodičkih senzora i naprednih komponenti za pakiranje čipova, prilagođavajući se zahtjevima visoko-precizne mikroelektroničke proizvodnje.

 

Standardno pakiranje i punjenje

 

Vrsta pakiranja:Ne{0}}otporan na koroziju PTFE-obložen / čist-HDPE zapečaćen bubanj, namjensko HF kemijsko pakiranje

Uobičajena specifikacija:25 kg / 30 kg mala bačva, 1000 kg otporna na koroziju-IBC torba

Okruženje punjenja:Čista soba klase 1000, potpuno{1}}bez korozije proizvodnja i sustav punjenja, nula sekundarne kontaminacije

Standard brtvljenja:Posebna zapečaćena struktura protiv -isparljivosti i protiv-curenja, striktno sprječava gubitak isparljivosti i vanjsku kontaminaciju

 

Skladištenje i rok trajanja

 

● Čuvajte u hladnom, suhom, ventiliranom namjenskom skladištu kemikalija za fluor, dobro zatvoreno, dalje od izravne sunčeve svjetlosti, visoke temperature i izvora topline.

● Strogo izolirajte od staklenih proizvoda, alkalnih tvari, oksidansa i metalnih materijala kako biste izbjegli kemijsku koroziju i neispravnu reakciju.

● Zabranite dugo-otvoreno skladištenje kako biste spriječili hlapljivo kvarenje i kontaminaciju upijanjem vlage.

● Rok trajanja:12 mjeseci pod standardnim zatvorenim uvjetima skladištenja

 

Rukovanje i sigurnosne mjere

 

● Fluorovodična kiselina vrlo je korozivna i hlapljiva. Operateri moraju nositi profesionalnu potpornu OZO: rukavice-otporne na fluor, potpuno zatvorene kemijske naočale, pregaču-otpornu na koroziju i zaštitnu odjeću.

● Sve radnje moraju se izvoditi u profesionalnim napama; izbjegavajte udisanje hlapljivih plinova i izravan kontakt s kožom, očima i sluznicama.

● Tijekom razrjeđivanja i doziranja polako dodajte kiselinu u deioniziranu vodu; nikada ne dodajte vodu u koncentriranu fluorovodičnu kiselinu kako biste spriječili prskanje i sigurnosne nezgode.

● Posebne mjere prve-pomoći moraju se odmah usvojiti u slučaju slučajnog kontakta ili curenja i strogo se pridržavati SDS smjernica za hitno odlaganje.

● Za potpunu klasifikaciju opasnosti, propise o prijevozu i-postupke prve pomoći, pogledajte službeni SDS dokument.

 

Osiguranje kvalitete

 

Svaka serija G4 fluorovodične kiseline proizvedena je, pročišćena i pregledana u strogom skladu s SEMI G4 međunarodnim standardima za poluvodiče. Uz svaku je pošiljku priložen službeni COA-specifičan za seriju. Cijeli proces proizvodnje i punjenja primjenjuje strogu kontrolu kontaminacije čistih-prostora i upravljanje procesom-otpornim na koroziju, osiguravajući ultra-visoku čistoću i stabilnu kvalitetu kako bi se ispunili strogi zahtjevi naprednih mokrih proizvodnih procesa poluvodiča.

 

Popularni tagovi: elektroničke kemikalije g4 fluorovodična kiselina (poluvodička vlažna kemikalija), Kina elektroničke kemikalije g4 fluorovodična kiselina (poluvodička vlažna kemikalija) proizvođači, dobavljači, tvornica

Pošaljite upit